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| 类型：高效 | 材质：PE | 适用对象：空气 |
| 适用范围：过滤器 | 品牌：Pall/颇尔 | 用途：气液过滤 |
| 样式：100 | 目数：10目/英寸 | 工作温度：90℃ |
| 性能：耐高温 | 型号：1100 |
ENTEGRIS 应特格 PFA过滤器，Mykrolis筒式过滤器，PFA塑料过滤器
Entegris（应特格）为电子，半导体，液晶显示等行业提供超纯水过滤，高纯化学品过滤，超纯工艺气体过滤，气体纯化等设备及配件。
应用行业:半导体、太阳能、液晶面板制造等行业，或者其他一些有超高纯流体要求的行业.
应用流体：盐酸、硝酸、双氧水以及其他一些有超高纯、防腐蚀要求的化学品流体.
接头身体部分材质为高纯PFA.简单的设计、简易的安装,用热风枪工具和扩口器即可完成安装,程度地减少您的安装时间和成本.工作压力为145PSI
推荐在洁净的工作环境下安装,这样只会有极少数颗粒杂质附着在表面.
连接方式:扩口式连接、卡套式连接、螺纹式连接、焊接式
连接尺寸:1/4"-1 1/4",JIS标准也可以提供.
提供：过滤、纯化和分离解决方案，广泛用于涵盖各类流体，例如化学品、气体、水、CMP研磨液和光阻,显影液。
应用行业：半导体，微电子，太阳能光伏，液晶显示，光纤等领域。
过滤介质：高纯化学品，工艺气体，高纯特气，纯水，化学药液 , 有机溶剂等。
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掺杂用气体、外延晶体生长气、离子注入气、刻蚀用气体、气相沉积（CVD）气体、平衡/反应气体、掺杂配方气体。
半导体工艺过程中主要使用的化学液大致可分四类，酸、碱、有机物化学研磨液、配比类化学液。
(1)酸。含有氢离子的液体叫做酸，包括HF、HN03、H2S04、王水和H3P04等，以下是一些在半导体加工中常用的酸及其用途:
a)氢氟酸HF，通过氢氟酸溶解二氧化硅这一特性来腐蚀玻璃、石英和硅片表面上的氧化层来达到刻蚀和清洗的目的。
b)盐酸HCL，通过双氧水氧化污染的金属，而酸与金属离子生成可溶性的氯化物而溶解，最终达到去除金属污染物的目的。
c)硫酸H2S04，通过硫酸及双氧水的强氧化性和脱水性破坏有机物的碳氢键，去除有机不纯物。
(2)碱，含有氢氧离子的液体叫做碱，包括NH4OH、NaOH、KOH和氢氧化四甲基铵，以下是一些在半导体加工中常用的碱及其用途：
a)氨水NH4OH。SC1 溶液是由氨水、双氧水和去离子水组成。通过利用氨水的弱碱性活化硅晶圆及微粒子表面，使晶圆表面与微粒子间产生互相排斥作用，以达到去除微粒子的作用。并且氨水与部分过度金属离子形成可溶性络合物，去除金属不溶物。具有氧化作用的双氧水氧化晶圆表面的作用，然后氨水对硅氧化物进行微刻蚀，去除颗粒。
b)氢氧化钾KOH，溶有硅土(Siica,Si02)的氢氧化钾溶液或者氨水溶液，使用在化学机械抛光制程中，是一种界电层平坦化研磨液，还是组成光刻后显影液的一种成分。
(3)有机溶剂，包含异丙醉、NMP、乙醇、显影液、光刻胶稀释剂等等。以下是一些在半导体加工中常用的有机溶剂及其用途：
a)异丙醇，行业中称为IPA，常利用IPA和水气溶的特性作为晶圆的干燥剂。
b)丙酮，常用于黄光室里正光阻清洗去除。
(4)配比类化学品如SC-1、SC-2、DHEF、BOE、SPM等配比化学品。
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化学品自动供液系统： 应用领域：半导体、太阳能、液晶面板、光纤等生产领域 常用化学品：HF/HNO3/HCL/H2SO4 /KOH/NAOH/H2O2/NH4OH等
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