| 类型：高效 | 材质：PET | 适用对象：化学药品 |
| 适用范围：过滤器 | 品牌：Pall/颇尔 |
Entegris光刻胶囊式过滤器， CWFG00403囊式过滤器，Mykrolis显影液过滤器
Entegris光刻胶囊式过滤器， CWFG00403囊式过滤器，Mykrolis显影液过滤器滤芯
半导体光刻胶过滤器，CWFV00403囊式滤芯，Mykrolis密科理Entegris应特格
Millipore密理博光刻胶过滤器CWFG00403 ，CWFA00403
Mykrolis密科理Entegris应特格Millipore密理博光刻胶过滤器CWFG00403
Mykrolis（密科理） CWFG00403 光刻胶囊式过滤器，PTFE膜+PP外壳，有***越的抗腐蚀性，耐氧性，耐有机溶剂性能，精度有0.1um/0.2um/1.0um，适合用于LCD/TFT/OLED行业进行光刻胶过滤，
在LCD/TFT/OLED行业，约有95%的设备都使用这一款过滤器。
光刻胶过滤器0.1micro 替代进口CWFG00403光刻胶囊式过滤器。
主要有溶剂、显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂，这些材料被称为高纯湿电子化学品，是集成电路行业应用非常***的一类化学试剂。
光刻胶常用溶剂有丙二醇甲醚/丙二醇甲醚醋酸酯（PGME/PGMEA）、甲醇、异丙醇、丙酮和N-甲基吡咯烷酮（NMP）等。
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在LCD/TFT/OLED行业，约有95%的设备都使用这一款过滤器。
光刻胶过滤器0.1micro 替代进口CWFG00403光刻胶囊式过滤器。
主要有溶剂、显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂，这些材料被称为高纯湿电子化学品，是集成电路行业应用非常***的一类化学试剂。
光刻胶常用溶剂有丙二醇甲醚/丙二醇甲醚醋酸酯（PGME/PGMEA）、甲醇、异丙醇、丙酮和N-甲基吡咯烷酮（NMP）等。
